最近科技圈的大事不斷，首先是量子領域，我國第一條量子芯片產線落地，意味著我國的量子計算技術進入到了商業化應用時代，其 次就是在ChatGPT技術上，被認為會成為引領未來互聯網技術爆發的新方向。
不過這兩項技術都還太新，處于應用的初期階段，還需要時間去培育市場，而在這個時候，其實我國也是不斷傳來好消息，其中在光刻機方面的成就是斐然的。
文 | 科技君
在2018年的時候，中芯國際曾經向荷蘭的ASML公司訂購了一台EUV光刻機，想要以此來擴充工藝輻射范圍，但是結果卻并不是很好， 由于老美的阻攔，最終這台EUV光刻機也沒有進入中芯國際。
也是因為這個原因，所以在2020年開始，我國加速了EUV光刻機的研發，但是在這個時候，ASML方面跳出來說，哪怕是把圖紙給我們，我們也造不出EUV光刻機，這話說的非常狂妄，而ASML公司之所以這麼說， 是因為EUV光刻機包含的零部件多達10萬之眾，所以ASML認為單靠我們是造不出來的。
可是，結果卻并非如此，根據最新消息顯示，最近哈工大成功公布的技術，獲得了我國光學學會最高獎，那麼這份獎有多重了，其實哈工大獲獎憑借的是高速超精密極光干涉儀，該技術可以應用在350nm至28nm多個工藝節點的光刻機樣機集成研制和性能測試領域， 并且根據哈工大的敘述，該技術還可以為7nm及以下節點光刻機研發提供重要的共性技術儲備，也就是說，這會是未來更高工藝光刻機研發的基礎。
另外，截止到目前為止哈工大還突破了EUV激光光源，光刻機雙工作台等技術，這也就是說，這些EUV光刻機上所需要的核心部分都已經被哈工大攻克，所以說距離真正的EUV光刻機突破似乎是越來越近了。
其中在EUV光源方面，哈工大掌握的是和ASML公司目前最高水平一樣的DPP-EUV光源。從這些方面來看，其實歐美已經沒有優勢了，我們目前需要的也只是時間了， 只要時間再多一些，相信國產EUV光刻機的突破，絕對不會是一句空話，畢竟我們的準備已經很充分了。
另外，倪光南院士也說了，目前絕大部分的應用芯片工藝主要集中在28nm水平上，所以說，只要28nm光刻機獲得突破，并且良率可以得到保障，那麼國產芯片事業的發展就可以完美過渡都自給自足。
畢竟在性能追求更高的芯片方面，如今也有了選擇，例如采用異構的方式將芯片堆疊，這一點長電科技的封裝水平已經達到，華為也擁有芯片堆疊技術的專利，完全可以解決中端芯片的生產制造問題， 至于高端移動芯片方面，之前高通已經發話了，會繼續和華為進行合作，畢竟高通也需要更多的客戶來壯大營收。
所以基于以上幾點，我們完全有時間在發展國產EUV光刻機的同時，繼續保證產業鏈的發展壯大，無論老美如何干預，影響是微乎其微的，畢竟如果真的有效果，那早在2019年的時候就起效了，可是結果卻是，目前的華為依舊好好的活著， 并且越活越好，已經逐步的擺脫了營收下滑的狀態，90%的機率是在2023年華為會恢復營收增長的發展趨勢。
