荷蘭的「站隊」，讓ASML二十余年的努力白費了！
在3月國中荷負責人會面時，荷蘭還信誓旦旦的表態：「兩國在半導體領域的合作要珍惜，在具體項目的合作上會有自己的判斷！」
沒曾想還不到十天的時間，荷蘭就開始變卦了，以「安全問題」為由，拒絕了繼續向中企提供DUV光刻設備，目前新規已經遞交給相關部門，預計將會在今年夏天正式開始實施。
顯然荷蘭已經選擇「站隊」老美了，僅僅在十天的時間內，態度就發生了如此大的反轉，直接讓ASML二十余年的努力「白費」了，這意味著什麼呢？中企的14nm工藝要被「鎖死」了嗎？
在荷蘭官方給出態度之后，ASML的無力感「噴涌而出」，也無法繼續再「硬剛」老美了，只能在全新的規則下尋找漏洞， 緊急回應：「浸沒式光刻機需要獲取授權，但并不包含所有的設備，相對成熟的設備不在限制范圍內，是可以滿足特定客戶的需求！」
而這句話顯然是對中企說的，ASML目前的業務核心主要分為EUV和DUV兩個板塊， 在《瓦森納協議》簽訂后，EUV光刻設備就和中國市場絕緣了，只能出售給特定的客戶，這已經讓ASML損失了龐大的市場。
但鑒于中國半導體產業的現狀，需求基本集中在成熟工藝設備上，能夠保證DUV光刻機設備的出貨，也不會存在太大的問題，但隨后芯片規則的不斷升級，老美開始施壓荷蘭斷供DUV設備，面臨大額利益的受損，ASML直接開始了「上躥下跳」的表演。
還真別說，在一定程度上起到了作用，導致了更為嚴格的新規實施延遲，而荷蘭在老美施壓的「三方協議」上也猶猶豫豫，月初的態度和十天后的態度差異太大，這其中肯定存在有「貓膩」的。
根據ASML的透漏，美日荷的「三方協議」，在一月份的時候就已經達成了，但三個國家卻沒有放出任何消息，大機率是因為具體事項還沒有討論完成， 日本、荷蘭都清楚跟進新規意味著什麼，但隨著荷蘭的妥協，日本預計近期也將官宣「站隊」。
除了ASML此前透露的「三方協議」消息有限，只說明了存在限制DUV設備的可能，具體的內容并不知道，但日企在深挖過程中，獲取到了一定的信息， 很可能會影響到「售后服務」，限制運維人員奔赴中國市場。
這對于設備廠商而言，無疑是晴天霹靂，意味著已經出貨的設備將受到影響，一旦售后服務跟不上，客戶根本就無法對復雜的機體進行維修，這相當于是「一錘子」買賣，顯然雙方的權益都無法獲得保障。
在ASML給出的聲明中，詳細描述了整個限制信息， 其表態：「并非所有的浸沒式光刻機都會受限，只涉及到了TWINSCAN NXT：2000i及以后的先進設備，其它產品是可以正常出貨的。」
通過信息源的追溯，也驗證了ASML的表態，在TWINSCAN NXT光刻機的整個系列當中，還有NXT：1980Di可以正常出貨，根據官網的描述，這款設備可支持38nm芯片制造。
但如今多重曝光工藝已經非常成熟，根據業內專業人士的分析，只要這款DUV設備能夠正常出貨，是能夠支持到14nm芯片生產的，或許還有下探到7nm工藝的可能，但也并非穩妥的，勢必會出現良品率低、成本高的問題。
表面上看似保住了中國市場，但很有可能是「三方協議」故意留下的漏洞，雖然能夠實現14nm芯片制造，但性能表現肯定不理想，這顯然已經達成了鎖死14nm工藝的目的。
但對于ASML而言就沒那麼樂觀了，耗費多年精心布局的中國市場，本來已經到了「收割」的階段，如今卻面臨著設備無法出貨的窘境，顯然20余年的努力都白費了。
原因就在于國產的光刻機已經達到90nm水平，28nm光刻機的核心技術均已實現突破，不排除在未來三年內量產的可能性，全面的封鎖勢必會推進中企的研發進程，因此留給AMSL的時間不多了。
在華為的帶動之下，國內的企業也徹底「警醒」了，開始不斷的接受國產供應鏈，這勢必會讓國產設備迎來全速發展，擺脫歐美技術壟斷已經被當成了目標，對此你們是怎麼看的？
